۱۲ آبان ۱۴۰۴
به روز شده در: ۱۲ آبان ۱۴۰۴ - ۲۳:۳۷
فیلم بیشتر »»
کد خبر ۹۲۹۷۴۳
تاریخ انتشار: ۰۳:۰۰ - ۰۶-۱۰-۱۴۰۲
کد ۹۲۹۷۴۳
انتشار: ۰۳:۰۰ - ۰۶-۱۰-۱۴۰۲

ماسک‌های نانویی برای لیتوگرافی در صنعت نیمه‌هادی تولید می‌شود

ماسک‌های نانویی برای لیتوگرافی در صنعت نیمه‌هادی تولید می‌شود
یک شرکت ژاپنی با همکاری مرکز نوآوری نانوالکترونیک IMEC بلژیک در حال کار روی ارائه نسل بعدی ادوات لیتوگرافی است. این همکاری راهبردی در مسیر تجاری‌سازی یکی از مؤلفه‌های اصلی سامانه‌های لیتوگرافی نیمه‌هادی با پرتوهای فرابنفش شدید (EUV) است.

در این پروژه مشترک قرار است روی غشاهای شفاف و نازک EUV تمرکز شود که نوعی ماسک EUV در برابر آلودگی است. مشارکت شرکت Mitsui Chemicals ژاپن و IMEC بلژیک به گونه‌ای برنامه‌ریزی شده است که ماسک‌های مبتنی بر نانولوله‌های کربنی در بازه زمانی سال‌های ۲۰۲۵ تا ۲۰۲۶ به مرحله تجاری‌سازی برسند.

به گزارش ایسنا، با افزایش نیاز به ایجاد محصولاتی با ابعاد کوچکتر و متراکم‌تر در مدارهای الکترونیکی، لیتوگرافی EUV به شدت مورد توجه شرکت‌ها قرار گرفته است.

بازار تجهیزات لیتوگرافی EUV تا حد زیادی در اختیار شرکت هلندی ASML است که ماشین‌آلات پیشرفته و پیچیده‌ای را تولید کرده و به فروش می‌رساند. این دستگاه‌ها پرتوهای فرابنفش ۱۳٫۲ نانومتری تولید کرده که این کار با استفاده از شلیک پالس‌های مکرر لیزر CO2 بر روی قطرات قلع مذاب انجام می‌شود و باعث ایجاد پلاسمایی می‌شود که تابش فرابنفش شدید ایجاد می‌کند.

تابش EUV از طریق اپتیک خاصی به یک اسکنر برای الگوبرداری لیتوگرافی در مقیاس نانومتر منتقل می‌شود. اندازه بسیار کوچک از ویژگی‌های ساختارهای ایجاد شده توسط این روش است، هر چند که آلودگی می‌تواند مشکلاتی برای کاربر ایجاد کند و هزینه گزافی را به تولیدکنندگان تحمیل کند. در نتیجه نیاز به ماسک‌های محافظ وجود دارد که شرکت ASML برخی از ماسک‌های مورد نیاز شرکت‌ها را تولید می‌کرد.

در این پروژه مشترک، دو شرکت ژاپنی و بلژیکی روی ارائه نسل جدید ماسک‌های حاوی نانولوله‌کربنی کار می‌کنند که می‌تواند نانولیتوگرافی با کیفیت بالا را امکان‌پذیر کند. براساس اطلاعات منتشر شده توسط این گروه، ماسک‌های حاوی نانولوله‌کربنی می‌تواند انتقال پرتو تا ۹۴ درصد را تضمین کرده و مقادیر بسیار کمی از پرتوها منعکس می‌شوند.

به نقل از ستاد نانو، این ماسک‌های نانویی می‌توانند در برابر سطح قدرت EUV فراتر از ۱۰۰۰ W قرار بگیرند. این ماسک‌ها نه تنها در برابر تابش فرابنفش شدید در لیتوگرافی شفاف بوده، بلکه به طول موج‌های فرابنفش عمق (DUV) که در برخی از سیستم‌های بازرسی و کنترل کیفیت نتایج لیتوگرافی استفاده می‌شود، قابل استفاده است.

پربیننده ترین پست همین یک ساعت اخیر
برچسب ها: ماسک ، نانو
ارسال به دوستان
ورود کد امنیتی
captcha
سازمان ملل: ۸۱ درصد از ساختمان‌های غزه آسیب دیده‌اند خداداد عزیزی: اعتراض رسمی تراکتور به رأی کمیته استیناف اعلام شد/ محرومیت از تماشاگر در جام حذفی عادلانه نیست مدارس برخی شهرهای هرمزگان فردا سه‌شنبه تعطیل است  تیم والیبال زیر ۱۶ سال دختران ایران مغلوب ژاپن شد/ پایان مرحله گروهی با قرار گرفتن در رده سوم جدول امید روانخواه از سرمربی‌گری تیم ملی امید استعفا داد آمار عجیب بازی تراکتور و الشرطه منتشر شد؛ برتری عددی الشرطه و درخشش بیرانوند تاخیر در آغاز فعالیت ادارات، دانشگاه‌ها و مدارس ۶ شهرستان خوزستان الدحیل قطر با شکست سنگین شباب الاهلی به میانه جدول لیگ نخبگان آسیا صعود کرد روسیه: ایتالیا به‌طور کامل فرو خواهد پاشید وزیر آموزش و پرورش: در راستای «جهاد تبیین» هفته آینده 3 کتاب درسی جدید به مدارس اضافه می کنیم فریدون هویدا؛ سیاست‌مدار ایرانی که سینمای فرانسه را دگرگون کرد آزادی ۱۴ محکوم به قصاص در تهران بهیافت و ترکه بافی در معماری نمای ساختمان یزدی (+عکس) ۲۹ واحدی بوربولوس؛ پروژه معماری یک منطقه رویایی در یونان(+عکس) آمریکا: یک طرح بزرگ تروریستی مرتبط با داعش را کشف و خنثی کردیم