.png "عصر ایران")
۰۹ مرداد ۱۴۰۴
به روز شده در: ۰۹ مرداد ۱۴۰۴ - ۱۹:۲۹
طرز تهیه جوجه‌کباب ترش؛ طعمی متفاوت از آشپزخانه‌های ایرانی (فیلم) ماسک‌های نانویی برای لیتوگرافی در صنعت نیمه‌هادی تولید می‌شود
یک شرکت ژاپنی با همکاری مرکز نوآوری نانوالکترونیک IMEC بلژیک در حال کار روی ارائه نسل بعدی ادوات لیتوگرافی است. این همکاری راهبردی در مسیر تجاری‌سازی یکی از مؤلفه‌های اصلی سامانه‌های لیتوگرافی نیمه‌هادی با پرتوهای فرابنفش شدید (EUV) است.
در این پروژه مشترک قرار است روی غشاهای شفاف و نازک EUV تمرکز شود که نوعی ماسک EUV در برابر آلودگی است. مشارکت شرکت Mitsui Chemicals ژاپن و IMEC بلژیک به گونه‌ای برنامه‌ریزی شده است که ماسک‌های مبتنی بر نانولوله‌های کربنی در بازه زمانی سال‌های ۲۰۲۵ تا ۲۰۲۶ به مرحله تجاری‌سازی برسند.
به گزارش ایسنا، با افزایش نیاز به ایجاد محصولاتی با ابعاد کوچکتر و متراکم‌تر در مدارهای الکترونیکی، لیتوگرافی EUV به شدت مورد توجه شرکت‌ها قرار گرفته است.
بازار تجهیزات لیتوگرافی EUV تا حد زیادی در اختیار شرکت هلندی ASML است که ماشین‌آلات پیشرفته و پیچیده‌ای را تولید کرده و به فروش می‌رساند. این دستگاه‌ها پرتوهای فرابنفش ۱۳٫۲ نانومتری تولید کرده که این کار با استفاده از شلیک پالس‌های مکرر لیزر CO2 بر روی قطرات قلع مذاب انجام می‌شود و باعث ایجاد پلاسمایی می‌شود که تابش فرابنفش شدید ایجاد می‌کند.
تابش EUV از طریق اپتیک خاصی به یک اسکنر برای الگوبرداری لیتوگرافی در مقیاس نانومتر منتقل می‌شود. اندازه بسیار کوچک از ویژگی‌های ساختارهای ایجاد شده توسط این روش است، هر چند که آلودگی می‌تواند مشکلاتی برای کاربر ایجاد کند و هزینه گزافی را به تولیدکنندگان تحمیل کند. در نتیجه نیاز به ماسک‌های محافظ وجود دارد که شرکت ASML برخی از ماسک‌های مورد نیاز شرکت‌ها را تولید می‌کرد.
در این پروژه مشترک، دو شرکت ژاپنی و بلژیکی روی ارائه نسل جدید ماسک‌های حاوی نانولوله‌کربنی کار می‌کنند که می‌تواند نانولیتوگرافی با کیفیت بالا را امکان‌پذیر کند. براساس اطلاعات منتشر شده توسط این گروه، ماسک‌های حاوی نانولوله‌کربنی می‌تواند انتقال پرتو تا ۹۴ درصد را تضمین کرده و مقادیر بسیار کمی از پرتوها منعکس می‌شوند.
به نقل از ستاد نانو، این ماسک‌های نانویی می‌توانند در برابر سطح قدرت EUV فراتر از ۱۰۰۰ W قرار بگیرند. این ماسک‌ها نه تنها در برابر تابش فرابنفش شدید در لیتوگرافی شفاف بوده، بلکه به طول موج‌های فرابنفش عمق (DUV) که در برخی از سیستم‌های بازرسی و کنترل کیفیت نتایج لیتوگرافی استفاده می‌شود، قابل استفاده است.
نظرات کاربران
لینک کوتاه: کپی لینک
درخواست ۲۰۰ فعال فرهنگی آلمان برای توقف ارسال سلاح به اسرائیل حملات جدید روسیه به اوکراین / 12 کشته و 130 زخمی رئیس‌جمهور لبنان: مصمم به خلع سلاح حزب‌الله هستیم آلمان: آماده به رسمیت شناختن کشور مستقل فلسطین هستیم احضار مهروز ساعی و نایب‌رییس فدراسیون تکواندو به وزارت ورزش یک نماینده مجلس: هنوز از فضای جنگ خارج نشدیم آتش‌سوزی گسترده در مراتع بلده مازندران ظرفیت پارکینگ های مهران به ۲۰۰ هزار خودرو رسید کشف جدید «جیمز وب» از منظومه‌سازی سیارات فراخورشیدی! ترامپ: حماس تسلیم شود آب تهران: سیاست تعدیل فشار در شبکه‌های آب، به منظور کاهش مصرف اجرایی شد/ اگر ۲۰ درصد از مصرف خود کم کنیم، می‌توانیم از بحران آب عبور کنیم/ اکنون که هفت تا هشت درصد از این کاهش مصرف، محقق شده دهخدا را چون مصدقی بود در جوی آب انداختند تا بگویند سکته کرد و مرد/ درب دانشسرا را قفل کردند تا دانشجویان نتوانند در خاکسپاریش شرکت کنند گوشی قاپی با لباس نظافتچی در بهشت زهرا دبیرکل سازمان ملل: حقوق بشر مورد حمله قرار گرفته است رهبر انصارالله یمن: مرگ در کمین صد هزار کودک در غزه