۱۳ آبان ۱۴۰۴
به روز شده در: ۱۳ آبان ۱۴۰۴ - ۰۶:۰۰
فیلم بیشتر »»
کد خبر ۹۲۹۷۴۳
تاریخ انتشار: ۰۳:۰۰ - ۰۶-۱۰-۱۴۰۲
کد ۹۲۹۷۴۳
انتشار: ۰۳:۰۰ - ۰۶-۱۰-۱۴۰۲

ماسک‌های نانویی برای لیتوگرافی در صنعت نیمه‌هادی تولید می‌شود

ماسک‌های نانویی برای لیتوگرافی در صنعت نیمه‌هادی تولید می‌شود
یک شرکت ژاپنی با همکاری مرکز نوآوری نانوالکترونیک IMEC بلژیک در حال کار روی ارائه نسل بعدی ادوات لیتوگرافی است. این همکاری راهبردی در مسیر تجاری‌سازی یکی از مؤلفه‌های اصلی سامانه‌های لیتوگرافی نیمه‌هادی با پرتوهای فرابنفش شدید (EUV) است.

در این پروژه مشترک قرار است روی غشاهای شفاف و نازک EUV تمرکز شود که نوعی ماسک EUV در برابر آلودگی است. مشارکت شرکت Mitsui Chemicals ژاپن و IMEC بلژیک به گونه‌ای برنامه‌ریزی شده است که ماسک‌های مبتنی بر نانولوله‌های کربنی در بازه زمانی سال‌های ۲۰۲۵ تا ۲۰۲۶ به مرحله تجاری‌سازی برسند.

به گزارش ایسنا، با افزایش نیاز به ایجاد محصولاتی با ابعاد کوچکتر و متراکم‌تر در مدارهای الکترونیکی، لیتوگرافی EUV به شدت مورد توجه شرکت‌ها قرار گرفته است.

بازار تجهیزات لیتوگرافی EUV تا حد زیادی در اختیار شرکت هلندی ASML است که ماشین‌آلات پیشرفته و پیچیده‌ای را تولید کرده و به فروش می‌رساند. این دستگاه‌ها پرتوهای فرابنفش ۱۳٫۲ نانومتری تولید کرده که این کار با استفاده از شلیک پالس‌های مکرر لیزر CO2 بر روی قطرات قلع مذاب انجام می‌شود و باعث ایجاد پلاسمایی می‌شود که تابش فرابنفش شدید ایجاد می‌کند.

تابش EUV از طریق اپتیک خاصی به یک اسکنر برای الگوبرداری لیتوگرافی در مقیاس نانومتر منتقل می‌شود. اندازه بسیار کوچک از ویژگی‌های ساختارهای ایجاد شده توسط این روش است، هر چند که آلودگی می‌تواند مشکلاتی برای کاربر ایجاد کند و هزینه گزافی را به تولیدکنندگان تحمیل کند. در نتیجه نیاز به ماسک‌های محافظ وجود دارد که شرکت ASML برخی از ماسک‌های مورد نیاز شرکت‌ها را تولید می‌کرد.

در این پروژه مشترک، دو شرکت ژاپنی و بلژیکی روی ارائه نسل جدید ماسک‌های حاوی نانولوله‌کربنی کار می‌کنند که می‌تواند نانولیتوگرافی با کیفیت بالا را امکان‌پذیر کند. براساس اطلاعات منتشر شده توسط این گروه، ماسک‌های حاوی نانولوله‌کربنی می‌تواند انتقال پرتو تا ۹۴ درصد را تضمین کرده و مقادیر بسیار کمی از پرتوها منعکس می‌شوند.

به نقل از ستاد نانو، این ماسک‌های نانویی می‌توانند در برابر سطح قدرت EUV فراتر از ۱۰۰۰ W قرار بگیرند. این ماسک‌ها نه تنها در برابر تابش فرابنفش شدید در لیتوگرافی شفاف بوده، بلکه به طول موج‌های فرابنفش عمق (DUV) که در برخی از سیستم‌های بازرسی و کنترل کیفیت نتایج لیتوگرافی استفاده می‌شود، قابل استفاده است.

برچسب ها: ماسک ، نانو
ارسال به دوستان
ورود کد امنیتی
captcha
هوشمندترین شهرهای جهان در سال ۲۰۲۵ کدامند؟ ۱۰ گیاه زیبای پاییزی که می‌توانید در گلدان یا باغچۀ خانه‌تان بکارید(+عکس) دشمن واقعی باتری گوشی / اپل و گوگل توضیح می‌دهند: بهترین روش شارژ برای عمر طولانی‌تر باتری یک پیش‌بینی عجیب؛ تا ۲۰ سال آینده میلیون‌ها نفر برای زندگی به فضا می‌روند ببرهای طلایی از نادرترین گربه‌های بزرگ جهان‌اند؛ اما سرنوشت تلخی در انتظارشان است (+عکس) پایان ۴۰ سال شک و تردید؛ ویدیوی 4K ناسا به توطئه فرود بر ماه خاتمه می‌دهد؟(+عکس) اقتصاد قطر در یک نگاه (+اینفوگرافی) هشدار درباره کاهش حس بویایی تفاوت بنزین هواپیما با خودرو؛ چرا موتورهای هوایی همچنان به اکتان بالا و سرب نیاز دارند؟ چطور سن واقعی کامپیوتر و لپ‌تاپ را تشخیص دهیم؟ قیمت آپارتمان ۵۰ در تهران؛ فرق شمال و جنوب پایتخت چقدر است؟ اسباب بازی‌های بمب گذاری شده توسط اسرائیل برای کودک‌کُشی در غزه اعلام برنامه ویژه برای لامین یامال؛ وینگر جوان بارسلونا باید زمان بیشتری را روی نیمکت سپری کند واکنش حماس به احتمال تصویب قانون برای اعدام اسرای فلسطینی فونت متفاوت شماره ۱۰ هافبک ایرانی دینامو ماخاچ‌قلعه جلب توجه کرد (+عکس)