۱۱ ارديبهشت ۱۴۰۴
به روز شده در: ۱۱ ارديبهشت ۱۴۰۴ - ۱۸:۲۵
فیلم بیشتر »»
کد خبر ۹۲۹۷۴۳
تاریخ انتشار: ۰۳:۰۰ - ۰۶-۱۰-۱۴۰۲
کد ۹۲۹۷۴۳
انتشار: ۰۳:۰۰ - ۰۶-۱۰-۱۴۰۲

ماسک‌های نانویی برای لیتوگرافی در صنعت نیمه‌هادی تولید می‌شود

ماسک‌های نانویی برای لیتوگرافی در صنعت نیمه‌هادی تولید می‌شود
یک شرکت ژاپنی با همکاری مرکز نوآوری نانوالکترونیک IMEC بلژیک در حال کار روی ارائه نسل بعدی ادوات لیتوگرافی است. این همکاری راهبردی در مسیر تجاری‌سازی یکی از مؤلفه‌های اصلی سامانه‌های لیتوگرافی نیمه‌هادی با پرتوهای فرابنفش شدید (EUV) است.

در این پروژه مشترک قرار است روی غشاهای شفاف و نازک EUV تمرکز شود که نوعی ماسک EUV در برابر آلودگی است. مشارکت شرکت Mitsui Chemicals ژاپن و IMEC بلژیک به گونه‌ای برنامه‌ریزی شده است که ماسک‌های مبتنی بر نانولوله‌های کربنی در بازه زمانی سال‌های ۲۰۲۵ تا ۲۰۲۶ به مرحله تجاری‌سازی برسند.

به گزارش ایسنا، با افزایش نیاز به ایجاد محصولاتی با ابعاد کوچکتر و متراکم‌تر در مدارهای الکترونیکی، لیتوگرافی EUV به شدت مورد توجه شرکت‌ها قرار گرفته است.

بازار تجهیزات لیتوگرافی EUV تا حد زیادی در اختیار شرکت هلندی ASML است که ماشین‌آلات پیشرفته و پیچیده‌ای را تولید کرده و به فروش می‌رساند. این دستگاه‌ها پرتوهای فرابنفش ۱۳٫۲ نانومتری تولید کرده که این کار با استفاده از شلیک پالس‌های مکرر لیزر CO2 بر روی قطرات قلع مذاب انجام می‌شود و باعث ایجاد پلاسمایی می‌شود که تابش فرابنفش شدید ایجاد می‌کند.

تابش EUV از طریق اپتیک خاصی به یک اسکنر برای الگوبرداری لیتوگرافی در مقیاس نانومتر منتقل می‌شود. اندازه بسیار کوچک از ویژگی‌های ساختارهای ایجاد شده توسط این روش است، هر چند که آلودگی می‌تواند مشکلاتی برای کاربر ایجاد کند و هزینه گزافی را به تولیدکنندگان تحمیل کند. در نتیجه نیاز به ماسک‌های محافظ وجود دارد که شرکت ASML برخی از ماسک‌های مورد نیاز شرکت‌ها را تولید می‌کرد.

در این پروژه مشترک، دو شرکت ژاپنی و بلژیکی روی ارائه نسل جدید ماسک‌های حاوی نانولوله‌کربنی کار می‌کنند که می‌تواند نانولیتوگرافی با کیفیت بالا را امکان‌پذیر کند. براساس اطلاعات منتشر شده توسط این گروه، ماسک‌های حاوی نانولوله‌کربنی می‌تواند انتقال پرتو تا ۹۴ درصد را تضمین کرده و مقادیر بسیار کمی از پرتوها منعکس می‌شوند.

به نقل از ستاد نانو، این ماسک‌های نانویی می‌توانند در برابر سطح قدرت EUV فراتر از ۱۰۰۰ W قرار بگیرند. این ماسک‌ها نه تنها در برابر تابش فرابنفش شدید در لیتوگرافی شفاف بوده، بلکه به طول موج‌های فرابنفش عمق (DUV) که در برخی از سیستم‌های بازرسی و کنترل کیفیت نتایج لیتوگرافی استفاده می‌شود، قابل استفاده است.

برچسب ها: ماسک ، نانو
ارسال به دوستان
ترکیب پرسپولیس و مس رفسنجان برای دیدار امروز سخنگوی وزارت امور خارجه: تعویق گفت‌وگوها بنا به پیشنهاد وزیر امور خارجه عمان بوده وزیر کار: حمایت فوری از حادثه‌دیدگان بندر شهید رجایی در دستور کار است/ حدود ۶ میلیون شاغل فاقد بیمه در کشور وجود دارد  فرمانده نیروی زمینی سپاه: دستگیری ۱۵۰ تروریست در سیستان و بلوچستان احضار ۵ عضو شهرداری و شورای شهر فریدونکنار به اتهام اخذ رشوه و پولشویی حضور داوطلبانه یک آتش نشان در حادثه بندر شهید رجایی (فیلم) مذاکرات ایران و آمریکا به تعویق افتاد/ وزیر خارجه عمان: به دلایل لجستیکی است واکنش پسر ترامپ به تلاش‌های نئوکان‌ها برای به شکست کشاندن مذاکرات ایران و آمریکا  ناسا اولین ژنراتور فضایی انرژی هسته‌ای جهان را آزمایش می‌کند آقای آملی لاریجانی! بعد از 2300 روز، تازه می گویید نه تعجیل می کنیم نه تعلل؟! 5 آموزۀ استراتژیک در مذاکرۀ ایران و آمریکا به روایت اندیشکدۀ کارنگی حوزه علمیه قم چگونه در سال ۱۳۰۱ بازتأسیس شد؟ مشاور امنیت ملی کاخ سفید: ترامپ آماده صلح با ایران است/ ویتکاف منتظر است تا تهران به میز مذاکرات بازگردد نتانیاهو: ۱۸ نفر به اتهام دست داشتن در آتش‌ سوزی‌ ها بازداشت شدند شلیک گلوله در نارمک تهران برای دستگیری ۲ سارق/ پلیس: سارقان می خواستند با ماموران درگیر شوند
نظرسنجی
به نظر شما هدف ستاد امر به معروف از ارسال پیامک های حجاب به موبایل های مردم چیست؟